一、說(shuō)明
真空鍍膜的設(shè)備需進(jìn)行加熱才能工作，原加熱方式采用電爐盤(pán)進(jìn)行間接加熱，該加熱方式為外加熱方式，存在熱傳遞效率低、散熱快、加熱速度慢，導(dǎo)致能耗高、設(shè)備環(huán)境溫度高、設(shè)備啟動(dòng)時(shí)間長(zhǎng)等缺點(diǎn)。

因此，我司采用渦流加熱的方式對(duì)設(shè)備進(jìn)行內(nèi)加熱方式加熱，提高加熱效率，降低設(shè)備啟動(dòng)時(shí)間，減小散熱，降低環(huán)境溫度，降低能耗，期望在原有的基礎(chǔ)上節(jié)電30%以上。

二、技術(shù)要求說(shuō)明

一）、基本要求

1)、電源采用三相380v，有接地線，功率分為15kw、12Kw兩種。

2)、采用模塊化設(shè)計(jì)，維修更換容易。

3）、保護(hù)功能完善，發(fā)生故障時(shí)能顯示故障代碼，方便維修。

4）、所有元件、配件在加熱器連續(xù)全功率運(yùn)轉(zhuǎn)的情況下工作壽命≥14000小時(shí)。

5）、環(huán)境溫度－20℃～45℃，濕度≤95%，并能適應(yīng)一定的惡劣環(huán)境。

6)、抗工業(yè)環(huán)境電磁干擾，且不對(duì)其它用電設(shè)備造成電磁干擾。

2、基本組成部分

1）、由控制器、操作顯示臺(tái)、工作線圈組成。